半导体生产含铜废水处理方法

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　　半导体行业中含铜废水是其中比较常见的一种废水，目前半导体生产含铜废水处理方法大多是委外或者单独处理，下面伏嘉环境为您介绍一种这类工业废水处理的方法。8Pe东莞伏嘉环境

　　半导体生产含铜废水进入反应池1，投加质量浓度10%的FeSO4溶液与半导体生产含铜废水中的双氧水反应，对络合铜进行氧化破络，同时Fe2+直接将络合态的铜进行置换，反应时间25～30min，FeSO4的加药量为进水中总铜质量的5～10倍。8Pe东莞伏嘉环境

　　反应池1出水溢流进入反应池2，向反应池2中投加氢氧化钙溶液，以维持反应池2的pH为9～12，当系统运行至斜板沉淀池底部污泥量达到污泥回流量时，反应池2中停止投加氢氧化钙溶液，污泥回流系统启动，在斜板沉淀池底部管道混合器进口处投加氢氧化钙溶液，废水与斜板沉淀池回流的含钙改质污泥发生反应，通过控制反应池2的pH为9～12来反馈控制氢氧化钙的投加量，废水在反应池2中停留时间控制在10～20min。8Pe东莞伏嘉环境

　　反应池2出水进入反应池3，加入重捕剂进行鳌合反应，产生含铜鳌合沉淀，进而将络合态的铜进一步去除，反应时间为15～20min，重捕剂投加量为反应池1进水中总铜质量的3～5倍.8Pe东莞伏嘉环境

　　反应池3反应结束后，废水进入反应池4，投加聚丙烯酰胺溶液进行絮凝反应，缓慢搅拌，反应时间5～10min，聚丙烯酰胺的加药量为3～5mg/L。8Pe东莞伏嘉环境

　　污泥进入斜板沉淀池进行泥水分离，一部分污泥通过排泥泵输送至污泥储槽，另一部分污泥通过回流泵输送至管道混合器，氢氧化钙与回流污泥在管道混合器中混合均匀，形成高密度污泥，回流污泥进入反应池2与废水进行反应。8Pe东莞伏嘉环境

　　采用这种半导体生产含铜废水处理方法工艺简单，用药量少，减低处理成本。如果您对半导体生产含铜废水处理还有什么疑问，欢迎咨询伏嘉环境工程师。8Pe东莞伏嘉环境