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半导体生产含铜废水处理方法

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时间:2022-12-02 09:13:18

半导体生产含铜废水处理方法

  半导体行业中含铜废水是其中比较常见的一种废水,目前半导体生产含铜废水处理方法大多是委外或者单独处理,下面伏嘉环境为您介绍一种这类工业废水处理的方法。

  半导体生产含铜废水进入反应池1,投加质量浓度10%的FeSO4溶液与半导体生产含铜废水中的双氧水反应,对络合铜进行氧化破络,同时Fe2+直接将络合态的铜进行置换,反应时间25~30min,FeSO4的加药量为进水中总铜质量的5~10倍。

  反应池1出水溢流进入反应池2,向反应池2中投加氢氧化钙溶液,以维持反应池2的pH为9~12,当系统运行至斜板沉淀池底部污泥量达到污泥回流量时,反应池2中停止投加氢氧化钙溶液,污泥回流系统启动,在斜板沉淀池底部管道混合器进口处投加氢氧化钙溶液,废水与斜板沉淀池回流的含钙改质污泥发生反应,通过控制反应池2的pH为9~12来反馈控制氢氧化钙的投加量,废水在反应池2中停留时间控制在10~20min。

  反应池2出水进入反应池3,加入重捕剂进行鳌合反应,产生含铜鳌合沉淀,进而将络合态的铜进一步去除,反应时间为15~20min,重捕剂投加量为反应池1进水中总铜质量的3~5倍.

  反应池3反应结束后,废水进入反应池4,投加聚丙烯酰胺溶液进行絮凝反应,缓慢搅拌,反应时间5~10min,聚丙烯酰胺的加药量为3~5mg/L。

  污泥进入斜板沉淀池进行泥水分离,一部分污泥通过排泥泵输送至污泥储槽,另一部分污泥通过回流泵输送至管道混合器,氢氧化钙与回流污泥在管道混合器中混合均匀,形成高密度污泥,回流污泥进入反应池2与废水进行反应。

  采用这种半导体生产含铜废水处理方法工艺简单,用药量少,减低处理成本。如果您对半导体生产含铜废水处理还有什么疑问,欢迎咨询伏嘉环境工程师。